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High-Efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells

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2005

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Schultz, Oliver

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Hocheffiziente Multikristalline Siliziumsolarzellen
Publikationstyp
Dissertation
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Zusammenfassung

In der vorliegenden Doktorarbeit wurde multikristallines Silizium im Hinblick auf seinen Einsatz in hocheffizienten Solarzellen untersucht. Da die Lebensdauer der Minoritätsladungsträger der Schlüsselparameter ist, welcher die Effizienz einer Siliziumsolarzelle bestimmt, wurde die Messung dieser Lebensdauer während der gesamten Arbeit zur Beurteilung der Materialqualität und der Güte der Oberflächenpassivierung eingesetzt. Die Anwendung der Standardprozesse, die für hochreines monokristallines Silizium entwickelt wurden, erbrachten auf multikristallinem Silizium keine guten Resultate, da die Materialqualität von den hohen Oxidationstemperaturen stark gemindert wurde. Deshalb mussten neue Prozesse und Prozessfolgen entwickelt werden.Besonderes Augenmerk wurde hierbei auf die Veränderungen der Materialqualität bei der Anwendung verschiedener Hochtemperaturprozesse gelegt. Hierbei hat sich herausgestellt, dass eine Phosphordiffusion sehr effektiv Verunreinigungen wie z.B. Eisen aus dem Material entfernen kann. Allerdings wies die Getter-Effizienz eine starke Abhängigkeit von kristallografischen Defekten auf, d.h. sie war hoch in Bereichen mit nur geringen Versetzungsdichten wohingegen in stark versetzten Gebieten keine Verbesserung zu erzielen war. Die Ergebnisse konnten anhand eines mikroskopischen Modells erklärt werden.Die Oxidation der Siliziumoberfläche ist ein vielseitig einsetzbarer Prozess für die Herstellung hocheffizienter Solarzellen, da Siliziumoxid sowohl als Maskierungsschicht als auch zur elektrischen Passivierung der Oberfläche genutzt werden kann. Die üblicherweise eingesetzten Prozesstemperaturen von ca. 1050 °C aktivieren intrinsische Defekte und führen somit zu einer Degradation multikristallinen Siliziums. Deshalb wurde ein Oxidationsprozess bei 800 °C entwickelt, bei dem zugeführter Wasserdampf die Oxidationsrate deutlich erhöht. Die Verschlechterung der Materialqualität wurde somit fast vollständig verhindert. Die Konzepte zur Herstellung hocheffizienter Siliziumsolarzellen wurden an die speziellen Bedürfnisse multikristallinen Siliziums angepasst. Hierzu zählte auch die Strukturierung der Vorderseite zur verbesserten Lichteinkopplung. Für diese sogenannte Texturierung wurde ein Plasma-Prozess für eine bei niedrigen Temperaturen hergestellte Maske entwickelt, der unabhängig von der Kristallorientierung die Oberfläche ätzt. Zusammen mit einer sehr guten internen Verspiegelung wirkt diese Struktur als Lichtfalle, was besonders für dünne Wafer von Bedeutung ist. Die verspiegelte Rückseite besteht aus einer 100 nm dicken Oxidschicht und aufgedampftem Aluminium. Zur Kontaktierung wurde das Aluminium lokal mittels eines Laserstrahls durch das Oxid gefeuert. Mit der neuen Prozessfolge konnte die Lebensdauer der Ladungsträger deutlich erhöht werden, während gleichzeitig eine Zellstruktur mit sehr gut passivierten Oberflächen und exzellenten optischen Eigenschaften aufgebaut wurde. Wirkungsgrade von über 20 % auf Scheibendicken von weniger als 100 µm wurden erreicht. Diese wurden in kalibrierten Messungen unabhängiger Labore bestätigt. Die Werte von 20.3 % auf Zellflächen von 1 cm2 (VOC = 664 mV, jSC = 37.7 mA/cm2, FF = 80.9 %) und 19.8 % auf 4 cm2 (VOC = 638 mV, jSC = 38.8 mA/cm2, FF = 80.0 %) sind die höchsten bis heute veröffentlichten Werte für multikristallines Silizium. Dies erbrachte den Nachweis, dass multikristallines Silizium bei richtiger Prozessführung als Material für hocheffiziente Solarzellen eingesetzt werden kann.
Die Wirkungsgrade der Solarzellen waren fast ausschließlich durch die Materialqualität begrenzt. Diese sind somit ideal für die Modellierung des Einflusses inhomogener Lebens-dauerverteilungen auf die Solarzellenparameter geeignet. Um die Verhältnisse in der Solarzelle möglichst genau nachzubilden, wurden für die Lebensdauermessung Proben eingesetzt, die auf der Vorderseite einen Emitter aufweisen und deren Rückseite mit einem Oxid passiviert ist. Die üblicherweise verwendeten Proben mit Siliziumnitridbeschichtung zur Oberflächenpassivierung bilden nämlich eine mögliche Materialverbesserung durch Emitterdiffusion oder eine Degradation durch Oxidation nicht ab. Allerdings ermöglichte der Emitter durch seine hohe Leitfähigkeit einen teilweisen Ladungs-trägerausgleich zwischen Bereichen hoher und niedriger Lebensdauer. Somit fielen die Messergebnisse in guten Bereichen zu niedrig und in schlechten Bereichen zu hoch aus, die lokale Materialqualität wurde bei einer solchen Probe nicht korrekt ermittelt. Mit Hilfe eines analytischen Algorithmus konnte jedoch die tatsächliche Lebensdauer berechnet werden, wie sie sich ohne Emitter darstellen würde. Dieser wurde für die Modellierung von Solarzellen in einem einfachen Modell benutzt, welches aus parallel geschalteten Elementarsolarzellen besteht. Anhand von 200 Solarzellen wurde experimentell bestätigt, dass eine korrekte Modellierung des Kurzschlussstromes und der offenen Klemmenspannung mit diesem Verfahren möglich ist.

Zusammenfassung in einer weiteren Sprache

In this thesis multicrystalline silicon was studied with respect to its suitability for high-efficiency silicon solar cells. Since the minority carrier lifetime is the key parameter determining the efficiency of a silicon solar cell, it was investigated in detail throughout this work.
The application of the processes designed for high-purity monocrystalline silicon did not result in good solar cells because the material degraded during the high-temperature oxidations. Therefore new processes and process sequences had to be developed.
Special attention was paid to the changes of the material quality during solar cell production. Phosphorus diffusion proved a very efficient gettering process to remove impurities like iron, which act as recombination centres. However, the gettering efficiency was strongly dependent on crystallographic defects, i.e. gettering was very efficient in regions of low dislocation density whereas it did not work in highly dislocated areas. A microscopic model was discussed which explains the observed results.
The oxidation of the silicon surface is a multi-purpose tool for high-efficiency solar cell production because the oxide serves as a masking layer and simultaneously passivates the surface. The usual process temperatures of 1050 °C severely degrade the material quality of multicrystalline silicon by activating intrinsic defects. A wet oxidation process at 800 °C was developed in which steam increases the growth rate. Thus, the degradation of multicrystalline silicon during oxidation was virtually eliminated.
The concepts developed for monocrystalline high-efficiency silicon solar cells were adapted to the special demands of multicrystalline silicon. This included the texturing of the front surface. A method based on plasma technology and a mask deposited at low temperatures was developed. This process etches silicon independent of the crystal orientation. The emitter diffusion was adjusted to the new texture. The surface was successfully passivated with a single phosphorus emitter diffusion and a thin thermal oxide layer of about 15 nm. Together with a rear surface showing high internal reflectance, this structure provided very good light-trapping which was particularly important for thin solar cells.
The mirror-like rear surface structure was composed of a 100 nm thick silicon oxide and a layer of evaporated aluminium. To form the contacts, the aluminium was laser-fired through the oxide layer. The effective rear surface recombination velocity was determined for a wide range of base doping densities and contact spacing. Since the lateral conductivity is reduced due to grain boundaries, multicrystalline silicon requires a smaller distance between the contacts than monocrystalline references.
The minority carrier lifetime of multicrystalline silicon increases by application of the developed process sequence. At the same time a cell structure is set up with well-passivated surfaces and excellent optical properties. Multicrystalline silicon solar cells exceeding 20 % efficiency were successfully produced on less than 100 µm thin wafers. Independently confirmed 20.3 % on 1 cm2 (VOC = 664 mV, jSC = 37.7 mA/cm2, FF = 80.9 %) and 19.8 % on 4 cm2 (VOC = 638 mV, jSC = 38.8 mA/cm2, FF = 80.0 %) are the highest efficiencies obtained on multicrystalline silicon to date. The average efficiencies of 18 % show the potential of the developed process on large area cells. The efficiency of the solar cells was almost entirely limited by the material quality. This predestined them for modelling of the influence of inhomogeneous carrier lifetimes on solar cell parameters. Wafers with emitter on the front and oxide on the rear were used as lifetime measurement samples. They reflect the material properties better than the standard silicon nitride passivated samples, since the emitter diffusion and the oxidation during cell processing can change the material properties. The emitter present during minority carrier density measurements increased the current flow from regions of high to regions of low lifetime which blurred the results. These effective measurement data were deconvoluted using an analytical model in order to obtain the microscopic material quality at a particular position. A model of elementary solar cells connected in parallel was applied. The dark saturation currents of all elementary cells, calculated from the carrier lifetime measurements, were simply summed up. On the base of 200 solar cells, it was shown that an accurate modelling of the solar cell short-circuit current density and the open-circuit voltage was possible with the developed algorithm.

Fachgebiet (DDC)
530 Physik

Schlagwörter

multikristallines Silizium, Solarzellen, Siliziumdioxid, hocheffiziente Solarzellen, multicrystalline silicon, solar cells, silicon oxide, high-efficiency solar cells

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Zitieren

ISO 690SCHULTZ, Oliver, 2005. High-Efficiency Multicrystalline Silicon Solar Cells [Dissertation]. Konstanz: University of Konstanz
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Die Verschlechterung der Materialqualität wurde somit fast vollständig verhindert. Die Konzepte zur Herstellung hocheffizienter Siliziumsolarzellen wurden an die speziellen Bedürfnisse multikristallinen Siliziums angepasst. Hierzu zählte auch die Strukturierung der Vorderseite zur verbesserten Lichteinkopplung. Für diese sogenannte Texturierung wurde ein Plasma-Prozess für eine bei niedrigen Temperaturen hergestellte Maske entwickelt, der unabhängig von der Kristallorientierung die Oberfläche ätzt. Zusammen mit einer sehr guten internen Verspiegelung wirkt diese Struktur als Lichtfalle, was besonders für dünne Wafer von Bedeutung ist. Die verspiegelte Rückseite besteht aus einer 100 nm dicken Oxidschicht und aufgedampftem Aluminium. Zur Kontaktierung wurde das Aluminium lokal mittels eines Laserstrahls durch das Oxid gefeuert. 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August 30, 2005
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