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Dynamic secondary ion mass spectroscopy of Au nanoparticles on Si wafer using Bi3+ as primary ion coupled with surface etching by Ar cluster ion beam : The effect of etching conditions on surface structure

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Datum

2018

Autor:innen

Park, Eun Ji
Choi, Chang Min
Kim, Il Hee
Kim, Jung-Hwan
Lee, Gaehang
Jin, Jong Sung
Kim, Young Dok
Choi, Myoung Choul

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Zeitschriftenartikel
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Erschienen in

Journal of Applied Physics. 2018, 123(1), 015303. ISSN 0021-8979. eISSN 1089-7550. Available under: doi: 10.1063/1.5011686

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Fachgebiet (DDC)
530 Physik

Schlagwörter

Transition; Nanoparticles; Semiconductors; Analytical chemistry; Secondary ion mass; spectroscopy

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ISO 690PARK, Eun Ji, Chang Min CHOI, Il Hee KIM, Jung-Hwan KIM, Gaehang LEE, Jong Sung JIN, Gerd GANTEFÖR, Young Dok KIM, Myoung Choul CHOI, 2018. Dynamic secondary ion mass spectroscopy of Au nanoparticles on Si wafer using Bi3+ as primary ion coupled with surface etching by Ar cluster ion beam : The effect of etching conditions on surface structure. In: Journal of Applied Physics. 2018, 123(1), 015303. ISSN 0021-8979. eISSN 1089-7550. Available under: doi: 10.1063/1.5011686
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