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Nickel : A very fast diffuser in silicon

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Datum

2013

Autor:innen

Lindroos, Jeanette
Fenning, David P.
Backlund, Daniel J.
Verlage, Erik
Estreicher, Stefan K.
Savin, Hele
Buonassisi, Tonio

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Zeitschriftenartikel
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Erschienen in

Journal of Applied Physics. 2013, 113(20), 204906. ISSN 0021-8979. eISSN 1089-7550. Available under: doi: 10.1063/1.4807799

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Fachgebiet (DDC)
530 Physik

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Konferenz

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ISO 690LINDROOS, Jeanette, David P. FENNING, Daniel J. BACKLUND, Erik VERLAGE, Angelika GORGULLA, Stefan K. ESTREICHER, Hele SAVIN, Tonio BUONASSISI, 2013. Nickel : A very fast diffuser in silicon. In: Journal of Applied Physics. 2013, 113(20), 204906. ISSN 0021-8979. eISSN 1089-7550. Available under: doi: 10.1063/1.4807799
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