Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken

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Prüfsumme: MD5:d334e4c9c317aef0d0ce13134d29eb81

STÜTZLE, Ralf, 2001. Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken [Master thesis]

@mastersthesis{Stutzle2001Atoml-9227, title={Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken}, year={2001}, author={Stützle, Ralf} }

2011-03-24T17:54:42Z deu 2001 Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken application/pdf Die neue Methode der dissipativen Lichtmasken wird in dieser Arbeit theoretisch untersucht und auf ihre Anwendbarkeit in der Atomlithographie überprüft.<br />Numerische Simulationen zeigen, dass durch spontane Emission während des Durchgangs der Atome durch die Lichtmaske im Mittel Energie dissipiert werden kann und somit die<br />Lokalisierung der Atome in der stehenden Lichtwelle verbessert wird. Des Weiteren werden alle Atome von dieser Wirkung erfasst, so dass sich auch der stets<br />störende Chromuntergrund reduziert. Zur experimentellen Umsetzung der neuen Methode werden deutlich längere Wechselwirkungszeiten der Atome<br />mit der Lichtmaske benötigt als bisher. Dies wird zukünftig durch Präparation eines langsamen Atomstrahls und Verwendung ausgedehnter Lichtmasken erfolgen.<br />Hierfür wird allerdings wesentlich mehr Lichtleistung bei der Wellenlänge des Chromübergangs von 425,6nm benötigt. In der Arbeit wird die Realisierung eines neuen<br />Frequenzverdopplungsresonators basierend auf einem 15mm langen brewster-geschnittenen LBO-Kristall beschrieben, womit es erstmals gelang 1W Licht der<br />benötigten Wellenlänge zu erzeugen. Stützle, Ralf 2011-03-24T17:54:42Z Stützle, Ralf deposit-license

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