Publikation: Model based prediction of the trap limited diffusion of hydrogen in post-hydrogenated amorphous silicon
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2016
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Physica Status Solidi (RRL) - Rapid Research Letters. 2016, 10(11), pp. 828-832. ISSN 1862-6270. eISSN 1862-6254. Available under: doi: 10.1002/pssr.201600303
Zusammenfassung
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Fachgebiet (DDC)
530 Physik
Schlagwörter
amorphous silicon, hydrogen, diffusion, thin films, nuclear resonant reaction
Konferenz
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Zitieren
ISO 690
GERKE, Sebastian, Hans-Werner BECKER, Detlef ROGALLA, Reinhart JOB, Barbara TERHEIDEN, 2016. Model based prediction of the trap limited diffusion of hydrogen in post-hydrogenated amorphous silicon. In: Physica Status Solidi (RRL) - Rapid Research Letters. 2016, 10(11), pp. 828-832. ISSN 1862-6270. eISSN 1862-6254. Available under: doi: 10.1002/pssr.201600303BibTex
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