Publikation: Multikristallines n-Typ-Silizium : Materialcharakterisierung und Solarzellenprozessierung
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This thesis contains the characterisation of block cast multicrystalline silicon (mc-Si) and the development of a solar cell process based on this material. Metallic impurities occuring commonly in mc-Si create recombination centers that have much lower capture cross section for holes than for electrons. This means that the lifetimes of the minority charge carrier in n-type Si should be higher compared to p-type Si containing the same concentration of impurities. The lifetime measurements presented in this work confirm this. This opens the opportunity to produce mc n-type Si solar cells with higher efficiencies than with the industrially used mc p-type Si.
BBr3-Diffusion is optimised for emitter-diffusion on n-type mc-Si, showing a gettering effect of this process step, which leads to an increase of the lifetime of the minority charge carriers. In addition, the surface passivation of the emitter by thermal SiO2, SiNx and - as a new method - with SiCx is investigated. The best results are achieved with thermal SiO2, but also the results obtained with SiCx are promissing. With the new developped process a record efficiency of 15.2% is obtained on n-type mc-Si with a back-surface-field concept. Simulations show, that the very good electronic quality should lead to significantly higher efficiencies in the future.
Zusammenfassung in einer weiteren Sprache
Diese Arbeit beinhaltet die Untersuchung von blockgegossenem multikristallinem (mc)n-Typ Silizium und die Solarzellenprozessierung auf diesem Material. Die in mc-Si häufig vorkommenden metallischen Verunreinigungen erzeugen Störstellen, deren Einfangquerschnitte für Löcher deutlich geringer sind, als für Elektronen. Dies bedeutet, dass n-dotiertes Silizium höhere Minoritätsladungsträgerlebensdauern und höhere Ladunsträgerdiffusionslängen aufweisen sollte als p-Typ Silizium mit gleicher Verunreinigungskonzentration. Die hier durchgeführten Lebensdauermessungen von unbehandelten und gegetterten n-Typ Si-Scheiben bestätigen dies. Damit besteht die Möglichkeit, dass mit diesem Material Solarzellen höheren Wirkungsgrades herstellbar sind, als mit dem bisher in der industriellen Produktion eingesetzten p-Typ mc-Si.
Zur Entwicklung eines Solarzellprozesses auf mc n-Typ Si wird in dieser Arbeit die Emitterdiffusion mittels BBr3 für mc-Si optimiert, dabei zeigt sich ein leichter Gettereffekt dieses Prozessschrittes, welcher sich in einer Erhöhung der Ladungsträgerlebensdauer ausdrückt. Zum anderen wird die Oberflächenpassivierung des Emitters mit thermischem SiO2, mit PECVD SiNx und - als neue Möglichkeit - mit SiCx untersucht. Die beste Passivierung wird dabei mit SiO2 erzielt, wobei auch SiCx vielversprechende Ergebnisse liefert.
Mit dem neuentwickelten Prozess wurde mit dem Back-Surface-Field-Konzept ein Rekordwirkungsgrad von 15,2% auf n-Typ mc Si erreicht. Simulationen zeigen, das angesichts der sehr guten elektronischen Qualität des mc n-Typ Si bei weiterer Optimierung des Solarzellprozesses deutlich höhere Wirkungsgrade realisierbar sind.
Fachgebiet (DDC)
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ISO 690
LIBAL, Joris, 2006. Multikristallines n-Typ-Silizium : Materialcharakterisierung und Solarzellenprozessierung [Dissertation]. Konstanz: University of KonstanzBibTex
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