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Aufbau einer intensiven Cluster-Ionenquelle

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1998

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Stolcic, Davor

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Publikationstyp
Masterarbeit/Diplomarbeit
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Zusammenfassung

ist im Rahmen einer Zusammenarbeit mit der Firma Carl Zeiss in Oberkochen dortige Abteilung für Halbleitertechnologie befaßt sich mit der Entwicklung optischen Systemen für Waferstepper, die zur Herstellung von Computerchips werden. Waferstepper werden dazu verwendet, am Reißbrett entworfene auf das eigentliche Mikrochipmaterial (Silizium) lithographisch zu Integrationsdichte von Mikroprozessoren und Speicherbauelementen hängt Qualität der Beleuchtungssysteme und dem Auflösungsvermögen der Hochleistungsobjektive ab. Die modernsten optischen Systeme erlauben im Moment die Herstellung kleiner 0,25 µm, wie sie z.B. für den 256 Mbit-DRAM benötigt werden. Das Licht liegt im nahen Ultraviolettbereich bei einer Wellenlänge von die in diesen Objektiven verwendet werden, haben aus herstellungstechnischen eine sphärische Form. Die Qualität der Linsen definiert sich über die Exaktheit Als Maß für die Qualität gibt man die mittlere quadratische Abweichung von der Idealform an. Diese liegt derzeit bei 1,5 nm. Dies ist eine sehr wenn man bedenkt, daß der Wert über die gesamte Linsenoberfläche, bei bis zu 250 mm, eingehalten werden muß. Umgerechnet auf die München entspricht dies einer Bodenwelle von ca. 5 mm Höhe.

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Fachgebiet (DDC)
530 Physik

Schlagwörter

Waferstepper, Computerchips

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ISO 690STOLCIC, Davor, 1998. Aufbau einer intensiven Cluster-Ionenquelle [Master thesis]
BibTex
@mastersthesis{Stolcic1998Aufba-9162,
  year={1998},
  title={Aufbau einer intensiven Cluster-Ionenquelle},
  author={Stolcic, Davor}
}
RDF
<rdf:RDF
    xmlns:dcterms="http://purl.org/dc/terms/"
    xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
    xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#"
    xmlns:bibo="http://purl.org/ontology/bibo/"
    xmlns:dspace="http://digital-repositories.org/ontologies/dspace/0.1.0#"
    xmlns:foaf="http://xmlns.com/foaf/0.1/"
    xmlns:void="http://rdfs.org/ns/void#"
    xmlns:xsd="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#" > 
  <rdf:Description rdf:about="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/9162">
    <dcterms:isPartOf rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/41"/>
    <dcterms:available rdf:datatype="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#dateTime">2011-03-24T17:54:09Z</dcterms:available>
    <dspace:isPartOfCollection rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/41"/>
    <dc:contributor>Stolcic, Davor</dc:contributor>
    <dc:language>deu</dc:language>
    <dcterms:hasPart rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/bitstream/123456789/9162/1/78_1.pdf"/>
    <dcterms:issued>1998</dcterms:issued>
    <dc:format>application/pdf</dc:format>
    <dcterms:title>Aufbau einer intensiven Cluster-Ionenquelle</dcterms:title>
    <dc:creator>Stolcic, Davor</dc:creator>
    <dcterms:rights rdf:resource="https://rightsstatements.org/page/InC/1.0/"/>
    <void:sparqlEndpoint rdf:resource="http://localhost/fuseki/dspace/sparql"/>
    <dcterms:abstract xml:lang="deu">ist im Rahmen einer Zusammenarbeit mit der Firma Carl Zeiss in Oberkochen dortige Abteilung für Halbleitertechnologie befaßt sich mit der Entwicklung optischen Systemen für Waferstepper, die zur Herstellung von Computerchips werden. Waferstepper werden dazu verwendet, am Reißbrett entworfene auf das eigentliche Mikrochipmaterial (Silizium) lithographisch zu Integrationsdichte von Mikroprozessoren und Speicherbauelementen hängt Qualität der Beleuchtungssysteme und dem Auflösungsvermögen der Hochleistungsobjektive ab. Die modernsten optischen Systeme erlauben im Moment die Herstellung kleiner 0,25 µm, wie sie z.B. für den 256 Mbit-DRAM benötigt werden. Das Licht liegt im nahen Ultraviolettbereich bei einer Wellenlänge von die in diesen Objektiven verwendet werden, haben aus herstellungstechnischen eine sphärische Form. Die Qualität der Linsen definiert sich über die Exaktheit Als Maß für die Qualität gibt man die mittlere quadratische Abweichung von der Idealform an. Diese liegt derzeit bei 1,5 nm. Dies ist eine sehr wenn man bedenkt, daß der Wert über die gesamte Linsenoberfläche, bei bis zu 250 mm, eingehalten werden muß. Umgerechnet auf die München entspricht dies einer Bodenwelle von ca. 5 mm Höhe.</dcterms:abstract>
    <dc:rights>terms-of-use</dc:rights>
    <bibo:uri rdf:resource="http://kops.uni-konstanz.de/handle/123456789/9162"/>
    <dspace:hasBitstream rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/bitstream/123456789/9162/1/78_1.pdf"/>
    <dc:date rdf:datatype="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#dateTime">2011-03-24T17:54:09Z</dc:date>
    <foaf:homepage rdf:resource="http://localhost:8080/"/>
  </rdf:Description>
</rdf:RDF>

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xmlui.Submission.submit.DescribeStep.inputForms.label.kops_note_fromSubmitter

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