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Screen Printed Silver Contacting Interface in Industrial Crystalline Silicon Solar Cells

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Datum

2013

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Cabrera Campos, Enrique

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Publikationstyp
Dissertation
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Zusammenfassung

This dissertation contributes to more insights to the fundamental understanding of the front screen printed Ag contact formation on Si n+ emitters. Screen printing Ag paste needs to be fired through the SiNX antireflexion layer, firing-compatible with the Al-BSF requirements, achieve good mechanical adhesion between the silver finger and the Si surface and contact n+ emitters with varying properties without damaging the junction. These challenging requirements need to be fulfilled by the result of the simultaneous chemical reactions between Ag, glass frit, SiNX , n+ doped Si emitter and O2 present in the atmosphere during the firing process. The final contact mainly consists of Ag crystallites distributed along the Si surface, a glass layer containing metal precipitates, and a sintered silver finger on top.



To identify the key reasons behind a good ohmic contact, we metallized Si solar cell emitters with different silver pastes on textured and flat silicon surfaces and we applied a sequential selective silver-glass etching process to expose and isolate the different contact components. The surface configurations after the etching sequences were analyzed with SEM. We observed glass-free emitter areas at the tops of some Si pyramids that lead to the formation of direct contacts between the Ag crystallites grown into the Si emitter and the bulk of the silver finger. Thereafter, we focused on the understanding of the current transport mechanisms from the silicon emitter into the bulk of the silver finger. For this, liquid conductive silver after different contact etch-backs was applied and the contact resistivity was measured to determine the dominant microscopic conduction path system. We presented experimental evidence that the major current flow into the silver finger is through these Ag crystallites directly contacted to the silver finger.



Hence, for screen-printed silver paste metallization, the presence of direct Ag crystallites is essential for the current conduction from the Si emitter to the silver finger and thus for low contact resistivity. For this purpose, we focused on the origin of these direct contacts. On textured surfaces we varied the Si pyramid sizes, rounded the pyramid tips to varying degrees and we also fabricated flat smooth and mc-Si surfaces. We observed that the size of the pyramids does not play an important role in the achievement of low specific contact resistivity unless the pyramid heights become smaller than the thickness of the glass layer. Contrariwise, rounding of the pyramid tips with standard heights increases specific contact resistivity significantly. Additionally, better contact resistivity on isotextured than flat surfaces were observed, even though the latter contain more Ag crystallites underneath the glass. Our observations indicate that a high density of Ag crystallites is not necessarily synonymous for a good contact, but of highest importance is how many of these Ag crystallites provide a direct connection with the silver finger. Also honeycomb textured Si features promote direct contacts at its elevated texture edges. To disregard the influence of the emitter doping concentration on the contact formation that is reportedly higher at the pyramid tips, we included surfaces without phosphorus doping in our study. Glass-free regions were also observed without P doping contained in these direct connections at the Si tips, where it is supposedly easier for Ag crystallite nucleation due to less Si atom back-bonding. Thus, from our microscopic investigations we suggested that the largest influence on the topography dependent contact resistance comes from the surface sharpness dependent glass coverage governing the amount of Ag crystallites directly connected with the silver finger bulk.



Finally, we concentrated on the impact of defects originating from electrically inactive phosphorus on contact formation within silver thick film metallized silicon solar cells. For this purpose, emitters with varying sheet resistance, depth and dead layer were metallized with silver pastes from different generations. Macroscopic contact resistivity measurements were compared to the microscopic contact configurations studied by SEM. We found that the density of Si surface embedded Ag crystallites scales proportionally to the electrically inactive P, and is independent of the sheet resistance. Using the newest silver paste, the Ag crystallite density is independent of the emitter doping, but the Ag crystallite size increases as a function of the thickness of the dead layer. The presence of glass-free regions needed for the direct connection between Ag crystallites and the silver finger to achieve good quality contact depends on the paste composition and on the surface texture, and does not vary with the Si emitter properties. TEM characterization of the excess P doped Si crystal lattice shows that significant strain and Si bond weakening may play a major role for both Ag crystallite nucleation and growth. Furthermore, to study the impact of defects in general on Ag crystallite formation, mechanical defects were intentionally produced on wafers without P diffusion, and multicrystalline Si with its dislocations and grain boundaries was metallized. While sub-surface micro-cracks and dislocations promote Ag crystallite nucleation, but not their further growth, there is no Ag crystallite formation at the studied electrically inactive grain boundaries. It is suggested that tensile stress in Si triggers Ag crystallite formation while compressive stress does not. One of the aims of this thesis was to contribute to the fundamental understanding of the screen printed Ag contact formation. Requirements for achieving a good contact, like surface sharpness and glass layer coverage were discussed. For future investigations, it would be interesting to use the results of this thesis and test other contact metals in order to reach the transition towards the reduction or replacement of silver in the front screen printed paste. Finally, whether or not the Ag crystallites are in direct contact with the silver finger or in quasi direct contact (separated from it by a very thin glass layer of less than 1nm) will continue to be discussed. However, the presence of Ag crystallites is required for the current transport. In fact, for all the industrial silver pastes of different generations and manufacturers that were investigated in this thesis, we always observed Ag crystallites underneath the glass layer or directly connected with the silver finger at the Si pyramid tips for optimal firing conditions. If it was possible to avoid the Ag crystallite formation while retaining a low specific contact resistance, an ideal contact could be achieved. Because there would be no metal penetration into the emitter and therefore no contact induced recombination losses, which are currently the main efficiency limiting factor. However, the glass layer is still not sufficiently conductive to allow for current transport without Ag crystallites. Therefore for future experiments, it would be interesting to measure the conductivity of the glass layer.

Zusammenfassung in einer weiteren Sprache

Diese Dissertation soll zum grundlegenden Verständnis der Kontaktbildung beim Siebdruck von Silber auf Silizium n+ Emittern beitragen. Beim Siebdruck muss Ag-Paste durch die Siliziumnitrid-Antireflexschicht gefeuert werden. Der Feuerprozess muss kompatibel mit den Anforderungen der Aluminium-BSF-Bildung sein, eine gute mechanische Haftung zwischen dem Silberfinger und der Si- Oberfläche erreichen und in der Lage sein, n+ Emitter mit unterschiedlichen Eigenschaften zu kontaktieren, ohne den p-n-Übergang zu beschädigen. Diese hohen Anforderungen müssen durch eine gleichzeitige chemische Reaktion zwischen Silber, Glasfritte, Siliziumnitrid, n+ dotierter Silizium-Emitterschicht und Sauerstoff in der Atmosphäre während des Feuerns erfüllt werden. Der Kontakt zwischen Silber und Silizium besteht letztendlich aus Silberkristalliten entlang der Silizium-Oberfläche, einer Glasschicht mit Metallausscheidungen und daraufliegendem gesintertem Silberfinger.



Um die wichtigsten Gründe für einen guten ohmschen Kontakt zwischen Silber und Silizium zu identifizieren, haben wir Solarzellen-Emitter mit verschiedenen Silberpasten metallisiert, sowohl auf texturierten als auch auf flachen Siliziumoberflächen. Dann haben wir ein sequentielles, selektives Silber-Glas-Ätzverfahren angewandt, um die verschiedenen Kontaktkomponenten frei zu legen. Die Oberflächen nach den verschiedenen Ätzschritten wurden mit SEM analysiert. Dabei haben wir an den Spitzen einiger Silizium-Pyramiden glasfreie Emitterflächen beobachtet, welche die Bildung von direkten Kontakten zwischen den Silberkristalliten im Emitter und dem eigentlichen Silberfinger erlauben. Danach haben wir uns auf das Verständnis der Strom-Transportmechanismen aus dem Siliziumemitter in den Silberfinger konzentriert. Dazu wurde auf die verschieden weit zurück geätzten Kontakte Leitsilber aufgetragen, um den spezifischen Kontaktwiderstand zu messen und damit die vorherrschenden mikroskopischen Strom- Leitungspfade zu bestimmen. Wir haben dabei experimentell nachgewiesen, dass der wesentliche Stromfluss in den Silberfinger durch die Silberkristallite, die direkt mit dem Silberfinger verbunden sind, erfolgt.



Bei der Metallisierung durch Siebdruck-Silberpaste ist also für einen geringen Kontaktwiderstand, das heißt einen guten Stromtransport, das Vorhandensein von Silberkristalliten im Si-Emitter, die im direkten Kontakt zum Silberfinger stehen, essentiell. Daher haben wir im Weiteren die Herkunft dieser direkten Kontakte untersucht. Dazu haben wir glatte und alkalisch texturierte Oberflächen auf monokristallinen Wafern erzeugt. Bei der Textur haben wir die Größe der Siliziumpyramiden variiert und die Pyramidenspitzen unterschiedlich stark abgerundet. Darüber hinaus haben wir multi-kristalline Wafern sauer (iso-) texturiert. Wir beobachteten, dass die Größe der Pyramiden keine wichtige Rolle dabei spielt, einen niedrigen spezifischen Kontaktwiderstand zu erreichen, es sei denn die Pyramidenhöhen sind kleiner als die Dicke der Glasschicht. Die Abrundung von Pyramidenspitzen mit Standardhöhen erhöhte den spezifischen Kontaktwiderstand signifikant. Außerdem wurde beobachtet, dass der spezifische Kontaktwiderstand auf isotexturierten Oberflächen kleiner als auf glatten Oberflächen ist, obwohl letztere mehr Silberkristallite unterhalb des Glases enthalten. Unsere Beobachtungen zeigen, dass eine hohe Silberkristallitdichte nicht unbedingt mit einem guten Kontakt einhergeht, sondern dass es von größter Bedeutung ist, wie viele von den Silberkristalliten eine direkte Verbindung mit dem Silberfinger haben. Auch die Honeycomb-Textur fördert mit ihren herausstehenden Kanten direkte Kontakte. Es wird berichtet, dass an den Pyramidenspitzen auch höhere Phosphorkonzentrationen vorliegen. Um einen Einfluss der Phosphorkonzentration auf die Kontaktbildung auszuschließen, haben wir daher auch Oberflächen ohne Phosphordotierung in unserer Studie aufgenommen. Auch ohne Phosphordotierung wurden an den Pyramidenspitzen glasfreie Regionen und direkte Kontakte beobachtet. Vermutlich erleichtert die geringere Silizium-Rückbindung an der Pyramidenspitze die Silberkristallitbildung. Aufgrund unserer mikroskopischen Untersuchungen schlagen wir vor, dass die Topographie-abhängige Bedeckung der Oberfläche mit Glas, welche die Zahl der direkt mit dem Silberfinger verbundenen Silberkristallite bestimmt, den größten Einfluss auf den Kontaktwiderstand hat.



Abschließend haben wir untersucht, wie sich Defekte, deren Ursprung elektrisch inaktiver Phosphor „Dead Layer” ist, auf die Kontaktbildung bei der Dickfilmmetallisierung von kristallinen Silizium-Solarzellen auswirken. Zu diesem Zweck wurden Emitter mit unterschiedlichem Schichtwiderstand und ”Dead Layer” und unterschiedlicher Emitter-Tiefe mit Silberpasten verschiedener Generationen metallisiert. Makroskopische Messungen der Kontaktwiderstände wurden mit mikroskopischen Kontaktbildern aus SEM Untersuchungen verglichen. Wir fanden heraus, dass die Dichte der in die Silizium-Oberfläche eingebetteten Silberkristallite proportional zum elektrisch inaktiven Phosphor aber unabhängig vom Emitter-Schichtwiderstand ist. Mit der neuesten Silberpaste ist die Silberkristallit dichte unabhängig von der Emitterdotierung, aber die Silberkristallitgröße wächst abhängig von der Stärke des ”Dead Layer”. Die Charakterisierung des mit überschüssigem Phosphor dotierten Silizium-Kristallgitters durch TEM zeigt, dass für die Keimbildung und das Wachstum von Silber-Kristalliten vermutlich die Dehnung und Schwächung der Silizium-Bindungen eine wichtige Rolle spielt. Um die Auswirkungen von Defekten auf die Silberkristallitbildung allgemeiner zu untersuchen, wurden auch mechanische Defekte auf Wafern ohne Phosphor-Diffusion produziert und es wurde multikristallines Silizium mit seinen Versetzungen und Korngrenzen metallisiert. Während absichtlich erzeugte Mikrorisse unter der Oberfläche und Versetzungen die Silberkristallitkeimbildung, jedoch kein weiteres Kristallit-Wachstum fördern, führen die untersuchten elektrisch inaktiven Korngrenzen nicht zur Silberkristallitbildung. Als Erklärung wird vorgeschlagen, dass Zugspannungen im Silizium eine Silberkristallitbildung auslösen, nicht jedoch Druckbelastungen.



Ziel dieser Doktorarbeit war es, zum grundlegenden Verständnis der Kontaktbildung zwischen gedrucktem Silber und Silizium beitragen. Es wurden die Voraussetzungen dafür, einen guten elektrischen Kontakt zu erreichen, wie Topographie der Oberfläche und daraus folgende Abdeckung der Oberfläche mit der Glasschicht diskutiert. Für zukünftige Untersuchungen wäre es interessant, die Methoden dieser Arbeit zu verwenden und andere Metalle zu untersuchen, um zur Einsparung oder zum Ersatz von Silber in der Siebdruck-Paste beizutragen. Schließlich wird sicher weiter diskutiert werden, ob die Silberkristallite tatsächlich in direktem Kontakt oder in quasi-direktem Kontakt (getrennt durch eine sehr dünne Glasschicht von weniger als 1nm) mit dem Silberfinger stehen. Auf jeden Fall ist jedoch die Anwesenheit von Silberkristalliten für den Stromtransport erforderlich. In der Tat haben wir, bei optimalen Feuerbedingungen, immer, für sämtliche industriellen Silberpasten verschiedener Hersteller und Generationen, die in dieser Doktorarbeit untersucht wurden, Silberkristallite unter der Glasschicht oder auf den Pyramidenspitzen im direkten Kontakt mit dem Silberfinger beobachtet. Wenn es möglich wäre, die Silberkristallitbildung unter Beibehaltung eines niedrigen spezifischen Kontaktwiderstands zu vermeiden, könnte ein idealer Kontakt erreicht werden, denn dann würde kein Metall in den Emitter eindringen und es gäbe daher keine Rekombinations-Verluste, die derzeit der wichtigste limitierende Faktor für die Effizienz von Solarzellen sind. Die Glasschicht ist allerdings noch nicht ausreichend leitfähig, um einen Stromtransport ohne Silberkristallite zu ermöglichen. Daher wäre es für zukünftige Experimente und Untersuchungen interessant, die Leitfähigkeit der Glasschicht zu messen und zu verbessern.

Fachgebiet (DDC)
530 Physik

Schlagwörter

Photovoltaics, silicon solar cells, semiconductor device metallisation, contact resistance, Ag crystallites, Surface topography, emitter dead layer

Konferenz

Rezension
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Forschungsvorhaben

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Zitieren

ISO 690CABRERA CAMPOS, Enrique, 2013. Screen Printed Silver Contacting Interface in Industrial Crystalline Silicon Solar Cells [Dissertation]. Konstanz: University of Konstanz
BibTex
@phdthesis{CabreraCampos2013Scree-25415,
  year={2013},
  title={Screen Printed Silver Contacting Interface in Industrial Crystalline Silicon Solar Cells},
  author={Cabrera Campos, Enrique},
  address={Konstanz},
  school={Universität Konstanz}
}
RDF
<rdf:RDF
    xmlns:dcterms="http://purl.org/dc/terms/"
    xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/"
    xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#"
    xmlns:bibo="http://purl.org/ontology/bibo/"
    xmlns:dspace="http://digital-repositories.org/ontologies/dspace/0.1.0#"
    xmlns:foaf="http://xmlns.com/foaf/0.1/"
    xmlns:void="http://rdfs.org/ns/void#"
    xmlns:xsd="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#" > 
  <rdf:Description rdf:about="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/25415">
    <void:sparqlEndpoint rdf:resource="http://localhost/fuseki/dspace/sparql"/>
    <dcterms:issued>2013</dcterms:issued>
    <dspace:hasBitstream rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/bitstream/123456789/25415/2/THESIS_E_CABRERA_flat.pdf"/>
    <bibo:uri rdf:resource="http://kops.uni-konstanz.de/handle/123456789/25415"/>
    <dc:creator>Cabrera Campos, Enrique</dc:creator>
    <dcterms:title>Screen Printed Silver Contacting Interface in Industrial Crystalline Silicon Solar Cells</dcterms:title>
    <dcterms:rights rdf:resource="https://rightsstatements.org/page/InC/1.0/"/>
    <dcterms:isPartOf rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/41"/>
    <dspace:isPartOfCollection rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/server/rdf/resource/123456789/41"/>
    <dcterms:available rdf:datatype="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#dateTime">2013-12-18T09:55:30Z</dcterms:available>
    <dc:date rdf:datatype="http://www.w3.org/2001/XMLSchema#dateTime">2013-12-18T09:55:30Z</dc:date>
    <dcterms:hasPart rdf:resource="https://kops.uni-konstanz.de/bitstream/123456789/25415/2/THESIS_E_CABRERA_flat.pdf"/>
    <dc:contributor>Cabrera Campos, Enrique</dc:contributor>
    <dc:rights>terms-of-use</dc:rights>
    <foaf:homepage rdf:resource="http://localhost:8080/"/>
    <dcterms:abstract xml:lang="eng">This dissertation contributes to more insights to the fundamental understanding of the front screen printed Ag contact formation on Si n&lt;sup&gt;+&lt;/sup&gt; emitters. Screen printing Ag paste needs to be fired through the SiN&lt;sub&gt;X&lt;/sub&gt; antireflexion layer, firing-compatible with the Al-BSF requirements, achieve good mechanical adhesion between the silver finger and the Si surface and contact n&lt;sup&gt;+&lt;/sup&gt; emitters with varying properties without damaging the junction. These challenging requirements need to be fulfilled by the result of the simultaneous chemical reactions between Ag, glass frit, SiN&lt;sub&gt;X&lt;/sub&gt; , n&lt;sup&gt;+&lt;/sup&gt; doped Si emitter and O&lt;sub&gt;2&lt;/sub&gt; present in the atmosphere during the firing process. The final contact mainly consists of Ag crystallites distributed along the Si surface, a glass layer containing metal precipitates, and a sintered silver finger on top.&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;To identify the key reasons behind a good ohmic contact, we metallized Si solar cell emitters with different silver pastes on textured and flat silicon surfaces and we applied a sequential selective silver-glass etching process to expose and isolate the different contact components. The surface configurations after the etching sequences were analyzed with SEM. We observed glass-free emitter areas at the tops of some Si pyramids that lead to the formation of direct contacts between the Ag crystallites grown into the Si emitter and the bulk of the silver finger. Thereafter, we focused on the understanding of the current transport mechanisms from the silicon emitter into the bulk of the silver finger. For this, liquid conductive silver after different contact etch-backs was applied and the contact resistivity was measured to determine the dominant microscopic conduction path system. We presented experimental evidence that the major current flow into the silver finger is through these Ag crystallites directly contacted to the silver finger.&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;Hence, for screen-printed silver paste metallization, the presence of direct Ag crystallites is essential for the current conduction from the Si emitter to the silver finger and thus for low contact resistivity. For this purpose, we focused on the origin of these direct contacts. On textured surfaces we varied the Si pyramid sizes, rounded the pyramid tips to varying degrees and we also fabricated flat smooth and mc-Si surfaces. We observed that the size of the pyramids does not play an important role in the achievement of low specific contact resistivity unless the pyramid heights become smaller than the thickness of the glass layer. Contrariwise, rounding of the pyramid tips with standard heights increases specific contact resistivity significantly. Additionally, better contact resistivity on isotextured than flat surfaces were observed, even though the latter contain more Ag crystallites underneath the glass. Our observations indicate that a high density of Ag crystallites is not necessarily synonymous for a good contact, but of highest importance is how many of these Ag crystallites provide a direct connection with the silver finger. Also honeycomb textured Si features promote direct contacts at its elevated texture edges. To disregard the influence of the emitter doping concentration on the contact formation that is reportedly higher at the pyramid tips, we included surfaces without phosphorus doping in our study. Glass-free regions were also observed without P doping contained in these direct connections at the Si tips, where it is supposedly easier for Ag crystallite nucleation due to less Si atom back-bonding. Thus, from our microscopic investigations we suggested that the largest influence on the topography dependent contact resistance comes from the surface sharpness dependent glass coverage governing the amount of Ag crystallites directly connected with the silver finger bulk.&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;&lt;br /&gt;Finally, we concentrated on the impact of defects originating from electrically inactive phosphorus on contact formation within silver thick film metallized silicon solar cells. For this purpose, emitters with varying sheet resistance, depth and dead layer were metallized with silver pastes from different generations. Macroscopic contact resistivity measurements were compared to the microscopic contact configurations studied by SEM. We found that the density of Si surface embedded Ag crystallites scales proportionally to the electrically inactive P, and is independent of the sheet resistance. Using the newest silver paste, the Ag crystallite density is independent of the emitter doping, but the Ag crystallite size increases as a function of the thickness of the dead layer. The presence of glass-free regions needed for the direct connection between Ag crystallites and the silver finger to achieve good quality contact depends on the paste composition and on the surface texture, and does not vary with the Si emitter properties. TEM characterization of the excess P doped Si crystal lattice shows that significant strain and Si bond weakening may play a major role for both Ag crystallite nucleation and growth. Furthermore, to study the impact of defects in general on Ag crystallite formation, mechanical defects were intentionally produced on wafers without P diffusion, and multicrystalline Si with its dislocations and grain boundaries was metallized. While sub-surface micro-cracks and dislocations promote Ag crystallite nucleation, but not their further growth, there is no Ag crystallite formation at the studied electrically inactive grain boundaries. It is suggested that tensile stress in Si triggers Ag crystallite formation while compressive stress does not. One of the aims of this thesis was to contribute to the fundamental understanding of the screen printed Ag contact formation. Requirements for achieving a good contact, like surface sharpness and glass layer coverage were discussed. For future investigations, it would be interesting to use the results of this thesis and test other contact metals in order to reach the transition towards the reduction or replacement of silver in the front screen printed paste. Finally, whether or not the Ag crystallites are in direct contact with the silver finger or in quasi direct contact (separated from it by a very thin glass layer of less than 1nm) will continue to be discussed. However, the presence of Ag crystallites is required for the current transport. In fact, for all the industrial silver pastes of different generations and manufacturers that were investigated in this thesis, we always observed Ag crystallites underneath the glass layer or directly connected with the silver finger at the Si pyramid tips for optimal firing conditions. If it was possible to avoid the Ag crystallite formation while retaining a low specific contact resistance, an ideal contact could be achieved. Because there would be no metal penetration into the emitter and therefore no contact induced recombination losses, which are currently the main efficiency limiting factor. However, the glass layer is still not sufficiently conductive to allow for current transport without Ag crystallites. Therefore for future experiments, it would be interesting to measure the conductivity of the glass layer.</dcterms:abstract>
    <dc:language>eng</dc:language>
  </rdf:Description>
</rdf:RDF>

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xmlui.Submission.submit.DescribeStep.inputForms.label.kops_note_fromSubmitter

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November 20, 2013
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