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Manifold use of growth substrate in the porous silicon-layer transfer-process

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2005

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Auer, Richard
Brendel, Rolf

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https://doi.org/10.1109/PVSC.2005.1488352
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Published

Erschienen in

IEEE, , ed.. Conference record of the Thirty-First IEEE Photovoltaic Specialists Conference - 2005 : Coronado Springs Resort, Lake Buena Vista, FL, January 3 - 7, 2005. Piscataway, NJ: IEEE Operations Center, 2005, pp. 1193-1196. ISSN 0160-8371. ISBN 0-7803-8707-4. Available under: doi: 10.1109/PVSC.2005.1488352

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Fachgebiet (DDC)
530 Physik

Schlagwörter

Konferenz

31st IEEE Photovoltaic Specialists Conferenc, 3. Jan. 2005 - 7. Jan. 2005, Lake Buena Vista
Rezension
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Zitieren

ISO 690HORBELT, Renate, Barbara TERHEIDEN, Richard AUER, Rolf BRENDEL, 2005. Manifold use of growth substrate in the porous silicon-layer transfer-process. 31st IEEE Photovoltaic Specialists Conferenc. Lake Buena Vista, 3. Jan. 2005 - 7. Jan. 2005. In: IEEE, , ed.. Conference record of the Thirty-First IEEE Photovoltaic Specialists Conference - 2005 : Coronado Springs Resort, Lake Buena Vista, FL, January 3 - 7, 2005. Piscataway, NJ: IEEE Operations Center, 2005, pp. 1193-1196. ISSN 0160-8371. ISBN 0-7803-8707-4. Available under: doi: 10.1109/PVSC.2005.1488352
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